Фотоника #5/2018
А. М. Григорьев
Лазерная рекристаллизация приповерхностного слоя кремния после операции ионной имплантации
Разработана установка для эффективной рекристаллизации нарушенного слоя поверхности кремниевой пластины после ионной имплантации для полупроводниковой индустрии. Установка реализует технологию лазерного отжига поверхностного слоя толщиной 1 мкм кремниевых пластин диаметром до 200 мм и применяется в технологическом процессе изготовления сильноточных IGBT-транзисторов. DOI: 10.22184/1993-7296.2018.12.5.498.500
Наноиндустрия #5/2014
М.Дидик
Российское производство магнитной наноэлектроники
"Крокус Наноэлектроника" – совместный проект корпорации "Роснано" и франко-американской компании Crocus Technology. Предприятие создано для промышленного производства магниторезистивной памяти с использованием технологии Magnetic Logic Unit (MLU). КНЭ стала резидентом технополиса "Москва", в конце 2013 года было объявлено о запуске первого технологического оборудования.