Фотоника - научно-технический журнал - Материалы тега

главная

eng

Вход

Архив журнала

Журналы

Медиаданные

Редакционная политика

© 2001-2025
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

R&W

ISSN 1993-7296 (print)
ISSN 2686-844X (online)

Книги по фотонике

Статьи

Фотоника #1/2025

Фотоника #8/2024

Новости // все новости

17.04.2025

14.04.2025

Тег "yield"

Фотоника #5/2023
Д. В. Былков, Д. А. Полторацкий, В. С. Солдаткин, А. О. Лазарева, А. П. Шкарупо, Е. С. Щепеткин
СРАВНЕНИЕ ВЛИЯНИЯ ОБЛУЧАТЕЛЬНЫХ ПРИБОРОВ НА РОСТ И УРОЖАЙНОСТЬ НА ПРИМЕРЕ ОГУРЦОВ СОРТА МЕВА F1

DOI: 10.22184/1993-7296.FRos.2023.17.5.408.418 Представлены результаты сравнительного анализа влияния отических характеристик облучательных приборов разной конструкции на рост и урожайность растений (огурцов сорта Мева F1). Оптимизирована конструкция светодиодных светильников и построена светотехническая модель для создания лабораторного стенда для исследования воздействия оптического излучения на процесс выращивания растений в условиях закрытого грунта. Изготовлены экспериментальные образцы облучательных приборов на основе светодиодов, которые обеспечивает продуктивность растений при меньшем росте стебля.

Электроника НТБ #5/2019
М. Макушин, В. Мартынов
ПОВЫШЕНИЕ НАДЕЖНОСТИ И ВЫХОДА ГОДНЫХ: ТРАДИЦИОННЫЕ И НОВЫЕ ПОДХОДЫ

По мере масштабирования микроэлектронных технологий, освоения производства новых поколений приборов задача увеличения выхода годных становится все более актуальной. Для повышения надежности и выхода годных производители постоянно совершенствуют существующие методы метрологии и тестирования, а также создают новые.

Электроника НТБ #1/2019
М. Макушин, В Мартынов
Надежность автомобильных ИС: экономические и технологические аспекты

Для обеспечения надежности автомобильных ИС разрабатываются специальные программы и стратегии повышения качества, устанавливаются дополнительные требования к методикам мониторинга отклонений по всему технологическому процессу завода – производителя автомобильных ИС, вводятся новые перспективные методы контроля дефектов на уровне кристалла. УДК 621.38 | ВАК 05.27.06 DOI: 10.22184/1992-4178.2019.182.1.146.154