В условиях антироссийских санкций импортозамещение материалов для микроэлектроники стало актуально как никогда. Не менее важно иметь в виду, что перспективы развития микро- и наноэлектроники определяются поиском новых материалов и решений, на основе которых будет возможно создание принципиально новой электроники.

sitemap
Наш сайт использует cookies. Продолжая просмотр, вы даёте согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь с нашей Политикой Конфиденциальности
Согласен
Поиск:

Вход
Архив журнала
Журналы
Медиаданные
Редакционная политика
Реклама
Авторам
Контакты
TS_pub
technospheramag
technospheramag
ТЕХНОСФЕРА_РИЦ
© 2001-2025
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

Яндекс.Метрика
R&W
 
 
Вход:

Ваш e-mail:
Пароль:
 
Регистрация
Забыли пароль?
Книги по фотонике
Урик Винсент Дж.-мл., МакКинни Джейсон Д., Вилльямс Кейт Дж.
Другие серии книг:
Мир фотоники
Библиотека Института стратегий развития
Мир квантовых технологий
Мир математики
Мир физики и техники
Мир биологии и медицины
Мир химии
Мир наук о Земле
Мир материалов и технологий
Мир электроники
Мир программирования
Мир связи
Мир строительства
Мир цифровой обработки
Мир экономики
Мир дизайна
Мир увлечений
Мир робототехники и мехатроники
Для кофейников
Мир радиоэлектроники
Библиотечка «КВАНТ»
Умный дом
Мировые бренды
Вне серий
Библиотека климатехника
Мир транспорта
Мир станкостроения
Мир метрологии
Мир энергетики
Книги, изданные при поддержке РФФИ
Новости
Отечественные материалы для российской микроэлектроники
Просмотры: 2534
24.08.2023
В условиях антироссийских санкций импортозамещение материалов для микроэлектроники стало актуально как никогда. Не менее важно иметь в виду, что перспективы развития микро- и наноэлектроники определяются поиском новых материалов и решений, на основе которых будет возможно создание принципиально новой электроники.


Стабильное обеспечение отечественной промышленности материалами требует организации их производства в сжатые сроки в нашей стране, что невозможно без поддержки государства. И такие меры принимаются Министерством промышленности и торговли Российской Федерации. Упомянем только два примера, о которых было сообщено в СМИ нынешней весной.

Как сообщил 6 марта 2023 года интернет-портал CNews, согласно информации на портале Единой автоматизированной системы «Закупки», Минпромторг России объявил о заказах научно-исследовательских работ (НИР) для организации производства на территории Российской Федерации целого ряда материалов, необходимых для микроэлектронного производства. В совокупности на эти цели министерство выделило 1,1 млрд руб.

В частности, Минпромторг России заказал НИР на разработку и постановку на производство особо чистого гексафторида вольфрама за 287,6 млн руб., бромистого водорода за 261,6 млн руб., реагента для измерения загрязнения пластин катионами металлов рентгено-флуоресцентным методом за 158 млн руб., прекурсоров триэтилбората и триэтилфосфата за 79,5 млн руб. Помимо этого, заказана разработка технологии производства прекурсов тетракис титана за 79,3 млн руб. и гидроксида тетраметиламмония за 187,3 млн руб. Все упомянутые НИР должны быть завершены 12 декабря 2024 года.

Все перечисленные выше материалы необходимы для изготовления интегральных микросхем и до введения санкций поставлялись в Россию из-за рубежа. Например, особо чистый гексафторид вольфрама используется при синтезе теллуритных стекол для герметизации интегральных схем. Разработка и постановка на производство химического соединения тетракис тинтана — это один из основных технологических процессов при изготовлении полупроводников с топологическими нормами 230-90 нм, отмечается в техзадании министерства.

16 марта сетевое издание Delta News сообщило, что Минпромторг России по итогам конкурса нашел подрядчика, который займется разработкой и освоением производства литографических материалов для микроэлектронного производства. Конкурс выиграло АО «Научно-исследовательский институт молекулярной электроники» (Зеленоград).

Актуальность НИР под шифром «Фотолиз» объясняется прекращением поставок по импорту фоторезистов и антиотражающих покрытий для изготовления субмикронных интегральных схем. Российское производство аналогичных материалов в настоящее время отсутствует.

Фоторезист − это светочувствительный полимерный материал, который наносят на обрабатываемый материал в ходе фотолитографии, чтобы получить на поверхности обрабатываемого материала «окна» для доступа травящих веществ. По итогам НИР подрядчик должен разработать и наладить производство фоторезистов пяти марок, а также двух видов антиотражающих покрытий. Для этого проведут теоретические и экспериментальные работы, разработают документацию технологического процесса, методики измерений параметров материалов и метрологической экспертизы.

Достижения и проблемы создания материалов микро- и наноэлектроники будут обсуждаться на заседаниях секции № 13 «Материалы микро- и наноэлектроники, диагностика материалов и элементов электронной компонентной базы», которая во второй раз включена в программу Научной конференции «ЭКБ и микроэлектронные модули». Поиск перспективных материалов для спинтроники и фотолитографии, разработка новой элементной базы на основе мемристоров для нейроморфных вычислительных сетей, наноэлектроника на основе сильнолегированных углеродных нанотрубок, создание эпитаксиальных пленок карбида кремния для микроэлектроники, разработка многослойных графеновых структур и атомногладких полупроводниковых пленок, высокочувствительных газоанализаторов и полимерных фоторезистов и целый ряд других материалов и технологий найдут свое отражение в работе секции. На ее заседаниях также будут обсуждаться методы материаловедения и диагностики материалов и элементной базы микроэлектроники.
 
 Комментарии читателей
Разработка: студия Green Art